Нетоскоп/Новости/08.06.2001 http://www.netoscope.ru/news/2001/06/08/2550.html Чипы IBM заработают быстрее, когда их растянут Вячеслав Ансимов 8.06.2001 19:16 |
||
Корпорация
Технология, названная "strained silicon" ("Растянутый кремний") позволяет добиться ускорения потока электронов в транзисторе. Для этого используется естественное стремление атомов внутри соединяемых структур выравниваться друг с другом. Если кремний поместить на подложку из материала с большим межатомным расстоянием, то кристаллическая решетка кремния будет растягиваться, стремясь выравняться с атомами подложки.
В такой растянутой структуре поток электронов испытывает меньшее сопротивление и движется на 70 процентов быстрее, что приводит в 35-процентному увеличению производительности чипа. При этом не требуется уменьшать толщину базы транзисторов, что до сих пор являлось основным методом ускорения их работы и практически исчерпало себя из-за достижения теоретических пределов этого уменьшения.
Это уже пятое крупное достижение в области полупроводниковой техники, которое делают ученые IBM за последние четыре года. В числе заслуг IBM: замена аллюминиевых соединений на кремниевом кристалле на медные, технология "кремний на диэлектрике" (SOI - замена кремниевой основы чипов стеклом), КМОП-транзисторы на кремний-германиевой (SiGe) подложке, изоляция с низкой диэлектрической постоянной SiLK.
Корпорация расчитывает внедрить strained silicon к 2003 году.
Copyright © 2000-2002 Нетоскоп www.netoscope.ru |